Substrat LiAlO2

El substrat LiAlO2 fa referència a un substrat fet d'òxid de liti i alumini (LiAlO2).LiAlO2 és un compost cristal·lí que pertany al grup espacial R3m i té una estructura cristal·lina triangular.

Els substrats de LiAlO2 s'han utilitzat en una varietat d'aplicacions, com ara el creixement de pel·lícules primes, capes epitaxials i heteroestructures per a dispositius electrònics, optoelectrònics i fotònics.A causa de les seves excel·lents propietats físiques i químiques, és especialment adequat per al desenvolupament de dispositius semiconductors de banda ampla.

Una de les principals aplicacions dels substrats de LiAlO2 és en el camp dels dispositius basats en nitrur de gal·li (GaN), com els transistors d'alta mobilitat electrònica (HEMT) i els díodes emissors de llum (LED).El desajust de gelosia entre LiAlO2 i GaN és relativament petit, el que el converteix en un substrat adequat per al creixement epitaxial de pel·lícules primes de GaN.El substrat LiAlO2 proporciona una plantilla d'alta qualitat per a la deposició de GaN, donant lloc a un millor rendiment i fiabilitat del dispositiu.

Els substrats de LiAlO2 també s'utilitzen en altres camps com el creixement de materials ferroelèctrics per a dispositius de memòria, el desenvolupament de dispositius piezoelèctrics i la fabricació de bateries d'estat sòlid.Les seves propietats úniques, com ara una alta conductivitat tèrmica, una bona estabilitat mecànica i una baixa constant dielèctrica, els donen avantatges en aquestes aplicacions.

En resum, el substrat LiAlO2 es refereix a un substrat fet d'òxid d'alumini de liti.Els substrats de LiAlO2 s'utilitzen en diverses aplicacions, especialment per al creixement de dispositius basats en GaN i el desenvolupament d'altres dispositius electrònics, optoelectrònics i fotònics.Posseeixen propietats físiques i químiques desitjables que els fan aptes per a la deposició de pel·lícules primes i heteroestructures i milloren el rendiment del dispositiu.